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PECVD磁控溅射镀膜生产线
产品简介
利用射频离子化学气相沉积技术,具有沉积速率快,成膜质量好的特点,可快速镀制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
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PECVD磁控溅射镀膜生产线利用射频离子化学气相沉积技术,具有沉积速率快,成膜质量好的特点,可快速镀制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。

组成和系统:
1、PECVD磁控生产线由八个室组成,分别为:过渡室—加热室—RF I室—RF II室—RF III室—RF IV室—冷却室—过渡室。
2、PECVD磁控生产线由进片台系统、出片台系统、货盘回流系统、整机系统、真空机组系统、工件驱动和夹具系统、真空测量与压强控制系统、工件烘烤系统、冷却配水及压缩空气系统、操作控制系统十大系统组成。

真空室尺寸和技术指标:
尺寸:1000×800(尺寸可根据客户要求订做)
1、极限压强:5×10-4pa
2、抽速:大气到5×10-3pa抽气时间小于20分钟。
3、升压率:1×10-3pa~1×10-1pa时间大于10分钟。
4、生产节拍:3-5分钟。(根据生产工艺而定)。

氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜种类

AZO太阳能电池PVD AZO太阳能电池真空镀膜 AZO太阳能电池真空电镀

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